Главная / КОСМЕТОЛОГУ / Max Sebum Control Serum / Сыворотка балансирующая с бакучиолом

Max Sebum Control Serum / Сыворотка балансирующая

Рейтинг:
(0 голосов)
В наличии
Сыворотка для комплексного профессионального ухода за комбинированной, жирной, проблемной кожей с признаками акне.
Артикул: 1226
Косметическая линия
Тип кожи
Жирная и проблемная кожа, Комбинированная кожа
Этап ухода
Интенсивный уход
Объем
30 мл
Товар доступен только для косметологов
Количество:
Купить в один клик

Препарат для комплексного ухода за комбинированной, жирной, склонной к акне кожей. Бакучиол в сочетании с салициловой кислотой снижает выработку кожного сала, подавляет рост бактерий и блокирует активность провоспалительных ферментов. Поросуживающим комплекс и экстракт белой ивы активно матируют кожу, заметно сужают поры и уменьшают количество загрязнений.

Сокращает время восстановления после чистки лица, а в сочетании с маской нормализует и улучшает состояние проблемной кожи.

Способ применения:
Применять на подготовленную кожу после чистки и нормализующих процедур, а затем применить Max Balance Mask.

Объём:
10 ампул х 3 ml

Только для профессионального использования!

INCI: AQUA, PEG-40 HYDROGENATED CASTOR OIL, GLYCERIN, BUTYLENE GLYCOL, FOMES OFFICINALIS EXTRACT, SALICYLIC ACID, SALIX ALBA BARK EXTRACT, BAKUCHIOL, SQUALANE, ALLANTOIN, PROPANEDIOL, POLYSORBATE 60, SORBITAN ISOSTEARATE, HYDROXYETHYL ACRYLATE/SODIUM ACRYLOYLDIMETHYL TAURATE COPOLYMER , PEG-7 GLYCERYL COCOATE, TRIETHANOLAMINE, BENZYL ALCOHOL, PHENOXYETHANOL, BENZOIC ACID, DEHYDROACETIC ACID, SODIUM BENZOATE, POTASSIUM SPRBATE, PARFUM, CI 19140, CI 42090

Страна происхождения: Республика Польша
Производитель: Поплавска Групп, Вильчице, ул. Кларены,2, 51-361 г.Вроцлав, Республика Польша / Popławska Group Sp.j, Wilczyce, ul. Clareny 2, 51-361 Wrocław, Polska
Импортер в РБ: Общество с ограниченной ответственностью "Фейсфория", Республика Беларусь, 222301, Минская область, Молодечненский район, г. Молодечно, ул. Купальская, д. 2, пом. 1А

Оставить комментарий
Заполните обязательные поля *.

Находится в разделах